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  用于3-12英寸的單晶硅、多晶硅、砷化鉀、石英晶體的線切割。是太陽能光伏產業、半導體產業、壓電晶體產業的工程性加工材料。

碳化硅的主要分析檢測方法:

  碳化硅中硅的含量決定碳化硅的硬度。 碳化硅的粒徑大小對線切割影響很大,但最重要的是碳化硅的顆粒形狀。因為線切割時碳化硅為游離狀態切割 顆粒的形狀變化對切割效率及切割質量要重要影響。

  檢測辦法:硅的含量需要原子吸收檢測(檢測效率高,數值較精確)。

  碳化硅粒徑需要電阻法顆粒分析儀(效率高)。

  碳化硅粒型檢測需要瑞思RA200顆粒分析儀.(可以分析顆粒形狀系數 圓度 較準確)。


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